ON THE GATE CAPACITANCE OF METAL-OXIDE SEMICONDUCTOR STRUCTURES IN N-CHANNEL INVERSION-LAYERS ON TERNARY CHALCOPYRITE SEMICONDUCTORS

被引:15
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作者
GHATAK, KP [1 ]
BISWAS, S [1 ]
机构
[1] BENGAL ENGN COLL,DEPT ELECTR & COMMUN ENGN,HOWRAH 711103,W BENGAL,INDIA
来源
关键词
D O I
10.1116/1.584431
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页数:7
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