GAS PLASMA-ETCHING OF CHROMIUM FILMS

被引:4
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作者
SUZUKI, Y
YAMAZAKI, T
NAKATA, H
机构
关键词
D O I
10.1143/JJAP.21.1328
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1328 / 1332
页数:5
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