ER-DOPED INP AND GAAS GROWN BY METALORGANIC CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引:54
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作者
UWAI, K
NAKAGOME, H
TAKAHEI, K
机构
关键词
D O I
10.1063/1.98814
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
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页码:1010 / 1012
页数:3
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