MULTILAYER APPLICATION OF UV HARDENING - PULSED ELECTRON-BEAMS RESIST HARDENING IN SOFT VACUUM

被引:0
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作者
HIRAOKA, H
LEE, J
HINSBERG, W
KRISHNASWAMY, J
LI, L
COLLINS, G
机构
[1] IBM CORP,ALMADEN RES CTR,SAN JOSE,CA 95120
[2] COLORADO STATE UNIV,DEPT ELECT ENGN,FT COLLINS,CO 80523
关键词
D O I
暂无
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
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页码:C436 / C436
页数:1
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