ACTIVATION RATIO OF FE IN FE-DOPED SEMIINSULATING INP EPITAXIAL LAYERS GROWN BY LIQUID-PHASE EPITAXY AND METALORGANIC CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：20
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作者：
SUGAWARA, M
KONDO, M
NAKAI, K
YAMAGUCHI, A
NAKAJIMA, K
机构：
来源：
APPLIED PHYSICS LETTERS | 1987年 / 50卷 / 20期
关键词：
D O I：
10.1063/1.97845
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
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页码：1432 / 1434
页数：3
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