On-site comparison of quantum Hall effect resistance standards of the KRISS and the BIPM: ongoing key comparison BIPM.EM-K12
被引:4
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作者:
Gournay, P.
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机构:
Bur Int Poids & Mesures BIPM, Pavillon Breteuil, F-92312 Sevres, FranceBur Int Poids & Mesures BIPM, Pavillon Breteuil, F-92312 Sevres, France
Gournay, P.
[1
]
Rolland, B.
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机构:
Bur Int Poids & Mesures BIPM, Pavillon Breteuil, F-92312 Sevres, FranceBur Int Poids & Mesures BIPM, Pavillon Breteuil, F-92312 Sevres, France
Rolland, B.
[1
]
Chae, D-H
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机构:
Korea Res Inst Stand & Sci KRISS, 267 Gajeong Ro, Daejeon 34113, South KoreaBur Int Poids & Mesures BIPM, Pavillon Breteuil, F-92312 Sevres, France
Chae, D-H
[2
]
Kim, W-S
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机构:
Korea Res Inst Stand & Sci KRISS, 267 Gajeong Ro, Daejeon 34113, South KoreaBur Int Poids & Mesures BIPM, Pavillon Breteuil, F-92312 Sevres, France
Kim, W-S
[2
]
机构:
[1] Bur Int Poids & Mesures BIPM, Pavillon Breteuil, F-92312 Sevres, France
[2] Korea Res Inst Stand & Sci KRISS, 267 Gajeong Ro, Daejeon 34113, South Korea
机构:
Bureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, SèvresBureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, Sèvres
Rolland B.
Stock M.
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机构:
Bureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, SèvresBureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, Sèvres
Stock M.
Gournay P.
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机构:
Bureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, SèvresBureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, Sèvres
Gournay P.
Matías L.
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机构:Bureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, Sèvres
Matías L.
Hortelano A.
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机构:Bureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, Sèvres
Hortelano A.
Raso F.
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机构:Bureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, Sèvres
Raso F.
Díaz de Aguilar J.
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机构:Bureau International des Poids et Mesures (BIPM), Pavillon de Breteuil, Sèvres