首页
学术期刊
论文检测
AIGC检测
热点
更多
数据
ADVANCES IN PLASMA-ETCHING
被引:0
|
作者
:
FLAMM, DL
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
FLAMM, DL
机构
:
来源
:
SOLID STATE TECHNOLOGY
|
1991年
/ 34卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
收藏
页码:105 / 105
页数:1
相关论文
共 50 条
[1]
ADVANCES IN VLSI PLASMA-ETCHING
LAM, DK
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
LAM, DK
SOLID STATE TECHNOLOGY,
1982,
25
(04)
: 215
-
219
[2]
ADVANCES IN PLANAR PLASMA-ETCHING EQUIPMENT
LECLAIRE, R
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
LECLAIRE, R
SOLID STATE TECHNOLOGY,
1979,
22
(04)
: 139
-
142
[3]
PLASMA-ETCHING
MUCHA, JA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV CALIF BERKELEY,DEPT CHEM ENGN,BERKELEY,CA 94720
UNIV CALIF BERKELEY,DEPT CHEM ENGN,BERKELEY,CA 94720
MUCHA, JA
HESS, DW
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV CALIF BERKELEY,DEPT CHEM ENGN,BERKELEY,CA 94720
UNIV CALIF BERKELEY,DEPT CHEM ENGN,BERKELEY,CA 94720
HESS, DW
ACS SYMPOSIUM SERIES,
1983,
219
: 215
-
285
[4]
PLASMA-ETCHING OF ALUMINUM
HESS, DW
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
HESS, DW
SOLID STATE TECHNOLOGY,
1981,
24
(04)
: 189
-
194
[5]
PLASMA-ETCHING OF SIPOS
NELSON, RD
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
BELL TEL LABS INC,READING,PA 19604
BELL TEL LABS INC,READING,PA 19604
NELSON, RD
HENNING, SM
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
BELL TEL LABS INC,READING,PA 19604
BELL TEL LABS INC,READING,PA 19604
HENNING, SM
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1983,
130
(06)
: C241
-
C241
[6]
A MODEL FOR PLASMA-ETCHING
PETIT, B
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
PETIT, B
PELLETIER, J
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
PELLETIER, J
COMPTES RENDUS DE L ACADEMIE DES SCIENCES SERIE II,
1986,
302
(03):
: 121
-
124
[7]
MICROWAVE PLASMA-ETCHING
SUZUKI, K
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
SUZUKI, K
NINOMIYA, K
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
NINOMIYA, K
NISHIMATSU, S
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
NISHIMATSU, S
VACUUM,
1984,
34
(10-1)
: 953
-
957
[8]
PLASMA-ETCHING OF SIALON
CHATFIELD, C
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
INST MICROWAVE TECHNOL,S-10044 STOCKHOLM,SWEDEN
INST MICROWAVE TECHNOL,S-10044 STOCKHOLM,SWEDEN
CHATFIELD, C
NORSTROM, H
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
INST MICROWAVE TECHNOL,S-10044 STOCKHOLM,SWEDEN
INST MICROWAVE TECHNOL,S-10044 STOCKHOLM,SWEDEN
NORSTROM, H
JOURNAL OF THE AMERICAN CERAMIC SOCIETY,
1983,
66
(09)
: C168
-
C168
[9]
THE PHYSICS OF PLASMA-ETCHING
ULACIA, JI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
ULACIA, JI
SCHWARZL, S
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
SCHWARZL, S
PHYSICA SCRIPTA,
1991,
T35
: 299
-
308
[10]
ON THE PLASMA-PHYSICS OF PLASMA-ETCHING
BISSCHOPS, TJ
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
BISSCHOPS, TJ
DEHOOG, FJ
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
DEHOOG, FJ
PURE AND APPLIED CHEMISTRY,
1985,
57
(09)
: 1311
-
1320
←
1
2
3
4
5
→