CHANNELING ION-IMPLANTATION THROUGH PALLADIUM FILMS

被引:3
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作者
ISHIWARA, H [1 ]
FURUKAWA, S [1 ]
机构
[1] TOKYO INST TECHNOL,FAC ENGN,DEPT PHYS ELECTR,MEGUROKU 152,TOKYO,JAPAN
来源
关键词
D O I
10.1116/1.568545
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1374 / 1377
页数:4
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