GROWTH OF SELECTIVE TUNGSTEN FILMS ON SELF-ALIGNED COSI2 BY LOW-PRESSURE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：5
|
作者：
VANDERPUTTE, P
SADANA, DK
BROADBENT, EK
MORGAN, AE
机构：
来源：
APPLIED PHYSICS LETTERS | 1986年 / 49卷 / 25期
关键词：
D O I：
10.1063/1.97227
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
收藏
页码：1723 / 1725
页数：3
相关论文
共 50 条
12345