INVESTIGATION OF EXCESS NOISE IN ULTRATHIN METAL-FILMS DEPOSITED ONTO SINGLE-CRYSTAL SILICON

被引:2
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作者
CHO, NI
BENE, RW
机构
关键词
D O I
10.1063/1.344343
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:2037 / 2044
页数:8
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