ELECTRON CHANNELING IN THE SCANNING ELECTRON-MICROSCOPE FOR MONITORING THE THICKNESSES OF RESIDUAL OXIDE-FILMS ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATES

被引:0
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作者
VINOGRADOVA, NS
NOSIKOV, SV
SOROKIN, IN
SOSNOVSKIKH, YN
机构
来源
INDUSTRIAL LABORATORY | 1986年 / 52卷 / 12期
关键词
D O I
暂无
中图分类号
TH7 [仪器、仪表];
学科分类号
0804 ; 080401 ; 081102 ;
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页码:1107 / 1108
页数:2
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