Phosphorous and boron doping effects on solid phase recrystallization of polycrystalline silicon films amorphized by germanium ion implantation (vol 15, pg 343, 1996)

被引：0
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作者：
Kang, MK
Yamamoto, T
Matsui, T
Kuwano, H
机构：
来源：
JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS | 1996年 / 15卷 / 19期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
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页码：1740 / 1740
页数：1
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