Large-area growth of in-plane oriented (112¯0) ZnO films by linear cathode magnetron sputtering

被引：0

作者：

OMRON Corporation, Kizugawa, Kyoto 619-0283, Japan ^{[1
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不详 ^{[2
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不详 ^{[3
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机构：

来源：

Jpn. J. Appl. Phys. | / 7 PART 2卷

关键词：

712.1 Semiconducting Materials - 714.2 Semiconductor Devices and Integrated Circuits - 802.3 Chemical Operations - 804.2 Inorganic Compounds;

D O I：

07HD16

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用