INFLUENCE OF ION-BOMBARDMENT DURING CONDENSATION ON THE PROPERTIES OF VACUUM-DEPOSITED THIN-FILMS

被引:0
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作者
DUDONIS, J
JOTAUTIS, A
MEILUS, O
MESKAUSKAS, A
PRANEVICIUS, L
机构
关键词
D O I
暂无
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
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