MAGNETIC-PROPERTIES AND MICROSTRUCTURE OF SPUTTERED CO-CR FILMS

被引:13
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作者
HWANG, U [1 ]
UCHIYAMA, Y [1 ]
ISHIBASHI, K [1 ]
SUZUKI, T [1 ]
机构
[1] TOHOKU UNIV,DEPT APPL PHYS,SENDAI,MIYAGI 980,JAPAN
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(87)90018-6
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:231 / 241
页数:11
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