PROTECTION OF SEMICONDUCTOR PHOTO-ANODES WITH ELECTRODEPOSITED METAL-OXIDE FILMS

被引:0
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作者
TENCH, D [1 ]
WARREN, LF [1 ]
机构
[1] ROCKWELL INT,MICROELECTR RES & DEV CTR,THOUSAND OAKS,CA 91360
关键词
D O I
暂无
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
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页码:C114 / C114
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