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PROCEEDINGS OF THE 8TH MOLECULAR-BEAM EPITAXY WORKSHOP - PREFACE
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|
作者
:
MILLER, JN
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0
MILLER, JN
机构
:
来源
:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
|
1988年
/ 6卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
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相关论文
共 50 条
[41]
MOLECULAR-BEAM EPITAXY OF AISB
CHANG, CA
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CHANG, CA
TAKAOKA, H
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TAKAOKA, H
CHANG, LL
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CHANG, LL
ESAKI, L
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ESAKI, L
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1982,
40
(11)
: 983
-
985
[42]
TECHNOLOGY OF MOLECULAR-BEAM EPITAXY
STALMACH, P
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STALMACH, P
KRALOVA, M
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KRALOVA, M
HUDEC, L
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0
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HUDEC, L
[J].
CHEMICKE LISTY,
1988,
82
(04):
: 372
-
381
[43]
SILICON MOLECULAR-BEAM EPITAXY
KUBIAK, R
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KUBIAK, R
PARKER, E
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PARKER, E
[J].
ELECTRONICS AND POWER,
1984,
30
(11-1):
: 853
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[44]
SILICON MOLECULAR-BEAM EPITAXY
OTA, Y
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机构:
BELL TEL LABS INC, READING, PA 19604 USA
BELL TEL LABS INC, READING, PA 19604 USA
OTA, Y
[J].
THIN SOLID FILMS,
1983,
106
(1-2)
: 3
-
136
[45]
SILICON MOLECULAR-BEAM EPITAXY
BEAN, JC
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机构:
BELL TEL LABS INC, MURRAY HILL, NJ 07974 USA
BELL TEL LABS INC, MURRAY HILL, NJ 07974 USA
BEAN, JC
[J].
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1979,
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(03)
: C121
-
C121
[46]
MOLECULAR-BEAM EPITAXY OF GASB
LONGENBACH, KF
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LONGENBACH, KF
WANG, WI
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WANG, WI
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1991,
59
(19)
: 2427
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2429
[47]
SILICON MOLECULAR-BEAM EPITAXY
SHIRAKI, Y
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SHIRAKI, Y
[J].
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B,
1985,
3
(02):
: 725
-
729
[48]
SILICON MOLECULAR-BEAM EPITAXY
SHIRAKI, Y
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机构:
HITACHI LTD, CENT RES LAB, KOKUBUNJI, TOKYO 185, JAPAN
HITACHI LTD, CENT RES LAB, KOKUBUNJI, TOKYO 185, JAPAN
SHIRAKI, Y
[J].
PROGRESS IN CRYSTAL GROWTH AND CHARACTERIZATION OF MATERIALS,
1986,
12
(1-4)
: 45
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66
[49]
MOLECULAR-BEAM EPITAXY OF SILICON
KASPER, E
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KASPER, E
[J].
1979,
52
(1-2):
: 147
-
155
[50]
SILICON MOLECULAR-BEAM EPITAXY
GRAVESTEIJN, DJ
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机构:
Philips Research Laboratories, Eindhoven, NL-5600 JA
GRAVESTEIJN, DJ
VANDEWALLE, GFA
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机构:
Philips Research Laboratories, Eindhoven, NL-5600 JA
VANDEWALLE, GFA
VANGORKUM, AA
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0
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机构:
Philips Research Laboratories, Eindhoven, NL-5600 JA
VANGORKUM, AA
[J].
ADVANCED MATERIALS,
1991,
3
(7-8)
: 351
-
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