LOW-HIGH-LOW PROFILE GALLIUM-ARSENIDE IMPATT RELIABILITY

被引:3
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作者
HEATON, JL [1 ]
WALLINE, RE [1 ]
CARROLL, JF [1 ]
机构
[1] ROME AIR DEV CTR,GRIFFISS AFB,NY 13441
关键词
D O I
10.1109/T-ED.1979.19385
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页数:6
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