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ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
被引:0
|
作者
:
EVERHART, TE
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0
机构:
UNIV CALIF BERKELEY,BERKELEY,CA 94720
UNIV CALIF BERKELEY,BERKELEY,CA 94720
EVERHART, TE
[
1
]
机构
:
[1]
UNIV CALIF BERKELEY,BERKELEY,CA 94720
来源
:
BULLETIN OF THE AMERICAN PHYSICAL SOCIETY
|
1977年
/ 22卷
/ 03期
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O4 [物理学];
学科分类号
:
0702 ;
摘要
:
引用
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页码:276 / 276
页数:1
相关论文
共 50 条
[1]
ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
HERRIOTT, DR
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机构:
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
HERRIOTT, DR
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY,
1982,
20
(03):
: 781
-
785
[2]
Electron-beam lithography
Oczos, Kazimierz
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机构:
Politechnika Rzeszowska, Poland
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Oczos, Kazimierz
Mechanik,
1988,
61
(07):
: 341
-
343
[3]
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PEASE, RFW
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PEASE, RFW
CONTEMPORARY PHYSICS,
1981,
22
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: 265
-
290
[4]
ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
HERRIOTT, DR
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BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
HERRIOTT, DR
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1982,
129
(03)
: C102
-
C102
[5]
Electron-beam lithography
Harriott, L
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Harriott, L
Liddle, A
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Liddle, A
PHYSICS WORLD,
1997,
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ELECTRON-BEAM INSTRUMENTS AND ELECTRON LITHOGRAPHY
VASICHEV, BN
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VASICHEV, BN
SOVIET JOURNAL OF OPTICAL TECHNOLOGY,
1982,
49
(12):
: 778
-
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[7]
DIRECT ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
ALLES, DS
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机构:
BELL TEL LABS INC,DEPT DEV LITHOG SYST,MURRAY HILL,NJ 07974
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ALLES, DS
SOLID STATE TECHNOLOGY,
1983,
26
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: 125
-
125
[8]
SIMULATION OF ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
DERKACH, VP
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DERKACH, VP
STARIKOVA, LV
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LEVCHENKO, EN
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CYBERNETICS,
1988,
24
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[9]
Multiple electron-beam lithography
Chang, THP
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机构:
Etec Syst Inc, Appl Mat Co, Hayward, CA 94545 USA
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Chang, THP
Mankos, M
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Etec Syst Inc, Appl Mat Co, Hayward, CA 94545 USA
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Mankos, M
Lee, KY
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Etec Syst Inc, Appl Mat Co, Hayward, CA 94545 USA
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Lee, KY
Muray, LP
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Etec Syst Inc, Appl Mat Co, Hayward, CA 94545 USA
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MICROELECTRONIC ENGINEERING,
2001,
57-8
: 117
-
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[10]
Simulation of electron-beam lithography
Derkach, V.P.
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Derkach, V.P.
Starikova, L.V.
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Starikova, L.V.
Levchenko, E.N.
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Levchenko, E.N.
Cybernetics (English Translation of Kibernetika),
1989,
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