PROTON IRRADIATION AT 30 30-DEGREES-K AND ISOCHRONAL ANNEALING OF REACTIVELY SPUTTERED TA THIN-FILM RESISTORS

被引：0
|
作者：
SHEWCHUN, J
HARDY, WR
PRONKO, PP
机构：
[1] MCMASTER UNIV,DEPT ELECT ENGN,HAMILTON,ONTARIO,CANADA
[2] MCMASTER UNIV,DEPT ENGN PHYS,HAMILTON,ONTARIO,CANADA
来源：
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1972年 / 43卷 / 12期
关键词：
D O I：
10.1063/1.1661045
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
收藏
页码：4915 / 4921
页数：7
相关论文
共 15 条
12