APPLICATION OF RESONANT IONIZATION MASS-SPECTROSCOPY TO DEPTH PROFILING IN III-V SEMICONDUCTOR-DEVICES

被引：0
|
作者：
MCLEAN, CJ
MARSH, JH
CAHILL, JW
DRYSDALE, SLT
JENNINGS, R
MCCOMBES, PT
LAND, AP
LEDINGHAM, KWD
SINGHAL, RP
SMYTH, MHC
STEWART, DT
TOWRIE, M
机构：
来源：
RESONANCE IONIZATION SPECTROSCOPY 1988 | 1989年 / 94卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O65 [分析化学];
学科分类号：
070302 ; 081704 ;
摘要：
引用
下载
收藏
页码：193 / 196
页数：4
相关论文
共 50 条
12345