STRUCTURE OF THIN LEAD OXIDE LAYERS AS DETERMINED BY X-RAY-DIFFRACTION

被引:33
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作者
LIGHT, TB [1 ]
ELDRIDGE, JM [1 ]
MATTHEWS, JW [1 ]
GREINER, JH [1 ]
机构
[1] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR, YORKTOWN HTS, NY 10598 USA
关键词
D O I
10.1063/1.321799
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1489 / 1492
页数:4
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