SILICIDE FORMATION AND INTERDIFFUSION EFFECTS IN SI-TA, SIO2-TA AND SI-PTSI-TA THIN-FILM STRUCTURES

被引:35
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作者
CHRISTOU, A [1 ]
DAY, HM [1 ]
机构
[1] USN,RES LAB,WASHINGTON,DC 20375
关键词
D O I
10.1007/BF02652882
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
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