COMPOSITION AND ELECTRON STRESS EFFECTS IN SILICON-NITRIDE THIN-FILMS MADE BY THERMAL GROWTH AND CHEMICAL ETCHING OF LPCVD MNOS STRUCTURES AS STUDIED BY X-RAY PHOTO-ELECTRON SPECTROSCOPY (XPS)

被引：6
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作者：
WURZBACH, JA
GRUNTHANER, FJ
MASERJIAN, J
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1982年 / 20卷 / 04期
关键词：
D O I：
10.1116/1.571653
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
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页码：962 / 965
页数：4
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