KINETIC-BEHAVIOR OF H-ATOM AND D-ATOM IN GAMMA-IRRADIATED SIO2 AS STUDIED BY ELECTRON-SPIN-RESONANCE SPECTROSCOPY

被引：19
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作者：
MIYAZAKI, T
AZUMA, N
FUEKI, K
机构：
来源：
JOURNAL OF THE AMERICAN CERAMIC SOCIETY | 1984年 / 67卷 / 02期
关键词：
D O I：
10.1111/j.1151-2916.1984.tb09623.x
中图分类号：
TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ; 080502 ;
摘要：
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