SILANE OXIDATION IN A LOW-PRESSURE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION SYSTEM IN THE TEMPERATURE-RANGE 100-450-DEGREES-C

被引：6
|
作者：
COBIANU, C
机构：
[1] Center of Microtechnology, Bucharest, 72996
来源：
THIN SOLID FILMS | 1993年 / 226卷 / 01期
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(93)90195-U
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
[No abstract available]
引用
收藏
页码：1 / 2
页数：2
相关论文
共 50 条
12345