FLUORIDE CONTENTS OF SURFACE ENAMEL IN HIGH-FLUORIDE AND LOW-FLUORIDE AREAS STUDIED WITH A SENSITIVE PHYSICAL METHOD

被引:0
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作者
RYTOMAA, I
KLEEMOLA.E
KEINONEN, J
ANTTILA, A
机构
[1] UNIV HELSINKI,INST DENT,FABIANINKATU 24,HELSINKI 10,FINLAND
[2] UNIV HELSINKI,DEPT PHYS,HELSINKI,FINLAND
来源
关键词
D O I
暂无
中图分类号
R78 [口腔科学];
学科分类号
1003 ;
摘要
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页码:197 / 201
页数:5
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