HIGH-TEMPERATURE PLASMA-ETCHING OF SILICON AND SILICON DIOXIDE

被引:0
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作者
CHIU, KCR
SNOW, WR
机构
[1] SYNERTEK INC,SANTA CLARA,CA 95051
[2] PACIFIC WESTERN SYST INC,MT VIEW,CA 94041
关键词
D O I
暂无
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
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页码:C81 / C81
页数:1
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