REDEPOSITION IN AES SPUTTER DEPTH PROFILING OF MULTILAYER CR/NI THIN-FILMS

被引:16
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作者
ZALAR, A [1 ]
HOFMANN, S [1 ]
机构
[1] MAX PLANCK INST MET RES, D-7000 STUTTGART 80, GERMANY
关键词
D O I
10.1002/sia.740120204
中图分类号
O64 [物理化学(理论化学)、化学物理学];
学科分类号
070304 ; 081704 ;
摘要
Films
引用
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页数:4
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