ELECTRON-BEAM INDUCED DAMAGE ON PASSIVATED METAL-OXIDE SEMICONDUCTOR-DEVICES

被引:0
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作者
GORLICH, S [1 ]
KUBALEK, E [1 ]
机构
[1] UNIV DUISBURG GESAMTHSCH,FACHGEBIET WERKSTOFFE ELEKTROTECH,D-4100 DUISBURG 1,FED REP GER
关键词
D O I
暂无
中图分类号
TH742 [显微镜];
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