EFFECTS OF TOPOLOGICAL AND QUANTITATIVE DISORDER ON THE OPTICAL-ABSORPTION PROPERTIES IN AMORPHOUS-SILICON ALLOYS

被引:6
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作者
YONEZAWA, F
ISHIDA, Y
OGAWA, S
TSUJINO, K
机构
[1] TOKYO INST TECHNOL,DEPT APPL PHYS,TOKYO 152,JAPAN
[2] OSAKA UNIV IND,DEPT GEN ARTS,OSAKA 574,JAPAN
关键词
D O I
10.1016/0022-3093(83)90527-6
中图分类号
TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
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