Sheet Resistance of the TiAlNiAu Thin-Film Metallization of Ohmic Contacts to Nitride Semiconductor Structures

被引:0
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作者
N. A. Torkhov
机构
[1] Scientific and Research Institute of Semiconductors,
[2] Tomsk State University of Control Systems and Radio Electronics,undefined
[3] Tomsk State University,undefined
来源
Semiconductors | 2019年 / 53卷
关键词
D O I
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