Compensating for bias

被引：0
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作者：
Mark Blamire
Bryan Hickey
机构：
[1] Cambridge University,Department of Material Science
[2] E. C. Stoner Laboratory,Department of Physics and Astronomy
[3] University of Leeds,undefined
来源：
Nature Materials | 2006年 / 5卷
关键词：
D O I：
暂无
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摘要：
The atomic-scale roughness of ferromagnetic and antiferromagnetic layers is crucial to their magnetic coupling, with important consequences for practical magnetic devices.
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