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Surface and gas phase chemistry of atomic layer deposition processes studied using tandem gas chromatography-mass spectrometry
被引:0
|作者:
Bouman, Menno
[1
]
Zaera, Francisco
[1
]
机构:
[1] Univ Calif Riverside, Riverside, CA 92521 USA
来源:
关键词:
D O I:
暂无
中图分类号:
O6 [化学];
学科分类号:
0703 ;
摘要:
218-COLL
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页数:1
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