Design of photoresist based on diverse reaction of polyfunctional vinyl ether monomers.

被引：0

作者：

Yamaoka, T ^{[1
]}

Takahara, S ^{[1
]}

Miyagawa, N ^{[1
]}

机构：

[1] Chiba Univ, Dept Informat & Image Sci, Chiba, Japan

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 1999年 / 218卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

70-PMSE

引用

页码：U623 / U623

页数：1