The Photopolymer Science and Technology Award

被引:0
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作者
Nagai, Tomoki [1 ]
Nagahara, Seiji [2 ]
机构
[1] JSR Corp, Tokyo, Japan
[2] Tokyo Electron Ltd, Tokyo, Japan
关键词
CONTAINING BLOCK-COPOLYMERS; CONTACT HOLE SHRINK; LITHOGRAPHY; SIMULATIONS; DEFECTIVITY; NM;
D O I
暂无
中图分类号
O63 [高分子化学(高聚物)];
学科分类号
070305 ; 080501 ; 081704 ;
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