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The Photopolymer Science and Technology Award
被引:0
|作者:
Nagai, Tomoki
[1
]
Nagahara, Seiji
[2
]
机构:
[1] JSR Corp, Tokyo, Japan
[2] Tokyo Electron Ltd, Tokyo, Japan
关键词:
CONTAINING BLOCK-COPOLYMERS;
CONTACT HOLE SHRINK;
LITHOGRAPHY;
SIMULATIONS;
DEFECTIVITY;
NM;
D O I:
暂无
中图分类号:
O63 [高分子化学(高聚物)];
学科分类号:
070305 ;
080501 ;
081704 ;
摘要:
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