Segregation of As on GaAs(100) surface during abrasion process studied by X-ray photoelectron spectroscopy and Auger electron spectroscopy

被引:0
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作者
机构
[1] Iijima, Yoshitoki
[2] Muramoto, Koichi
[3] Uemura, Masao
[4] Hiraoka, Kenzo
来源
Iijima, Yoshitoki | 1600年 / 32期
关键词
D O I
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