FLUORINATED CHEMISTRY FOR HIGH-QUALITY, LOW HYDROGEN PLASMA-DEPOSITED SILICON-NITRIDE FILMS

被引：37
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作者：
CHANG, CP
FLAMM, DL
IBBOTSON, DE
MUCHA, JA
机构：
来源：
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1987年 / 62卷 / 04期
关键词：
D O I：
10.1063/1.339645
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
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页码：1406 / 1415
页数：10
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