SILICON FILMS GROWTH IN VACUUM BY PYROLYSIS OF SILANE

被引:2
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作者
ALEXANDROV, LN [1 ]
EDELMAN, FL [1 ]
VOSKOBOINIKOV, VV [1 ]
机构
[1] ACAD SCI USSR,INST SEMICOND PHYS,NOVOSIBIRSK 90,USSR
关键词
D O I
10.1016/0042-207X(77)90045-8
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:145 / 150
页数:6
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