FACTORS INFLUENCING SURFACE QUALITY AND IMPURITY DISTRIBUTION IN SILICON RIBBONS GROWN BY THE CAPILLARY ACTION SHAPING TECHNIQUE (CAST)

被引:21
|
作者
CISZEK, TF [1 ]
SCHWUTTKE, GH [1 ]
YANG, KH [1 ]
机构
[1] IBM CORP,E FISHKILL FACIL,HOPEWELL JUNCTION,NY 12533
关键词
D O I
10.1016/0022-0248(80)90241-9
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
引用
收藏
页码:160 / 174
页数:15
相关论文
共 12 条