HETEROGENEOUS KINETICS AND MASS-TRANSPORT IN CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION PROCESSES .1. THEORETICAL DISCUSSION

被引:18
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作者
HITCHMAN, ML [1 ]
机构
[1] LABS RCA LTD, CH-8048 ZURICH, SWITZERLAND
关键词
D O I
10.1016/0146-3535(81)90005-8
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
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页数:33
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