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ELECTRICAL-PROPERTIES OF PLASMA-DEPOSITED SI-N FILMS ON GAAS

被引：0
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作者：
OHNSTEIN, TR
ROBINSON, GY
HELIX, MJ
STREETMAN, BG
VAIDYANATHAN, KV
机构：
[1] UNIV MINNESOTA,DEPT ELECT ENGN,MINNEAPOLIS,MN 55455
[2] UNIV ILLINOIS,COORDINATED SCI LAB,URBANA,IL 61801
[3] UNIV ILLINOIS,DEPT ELECT ENGN,URBANA,IL 61801
来源：
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES | 1979年 / 26卷 / 11期
关键词：
D O I：
10.1109/T-ED.1979.19776
中图分类号：
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ; 0809 ;
摘要：
引用
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页码：1854 / 1854
页数：1
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