ANNEALING BEHAVIOR OF ELECTROPLATED PERMALLOY THIN-FILMS .2.

被引:5
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作者
GANGULEE, A [1 ]
ANDERSON, RL [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1007/BF02654551
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:171 / 192
页数:22
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