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IMPROVEMENT OF GAAS-GAALAS DOUBLE-HETEROSTRUCTURE LASER WAFER BY GA1-XALXAS BUFFER LAYER
被引:2
|作者:
SHIMA, K
MORIMOTO, M
IMAI, H
FUJIWARA, T
TAKUSAGAWA, M
机构:
关键词:
D O I:
10.1063/1.91990
中图分类号:
O59 [应用物理学];
学科分类号:
摘要:
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页码:503 / 505
页数:3
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