IMPROVEMENT OF GAAS-GAALAS DOUBLE-HETEROSTRUCTURE LASER WAFER BY GA1-XALXAS BUFFER LAYER

被引:2
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作者
SHIMA, K
MORIMOTO, M
IMAI, H
FUJIWARA, T
TAKUSAGAWA, M
机构
关键词
D O I
10.1063/1.91990
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:503 / 505
页数:3
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