ULTRAHIGH MAGNETIC-FIELD STUDY OF KONDO-TYPE ZERO-BIAS CONDUCTANCE PEAK IN MAGNETICALLY DOPED METAL-INSULATOR-METAL TUNNEL-JUNCTIONS

被引:21
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作者
BERMON, S [1 ]
PARASKEVOPOULOS, DE [1 ]
TEDROW, PM [1 ]
机构
[1] MIT,FRANCIS BITTER NATL MAGNET LAB,CAMBRIDGE,MA 02139
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1978年 / 17卷 / 05期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.17.2110
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:2110 / 2123
页数:14
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