RF-SPUTTERED B-DOPED A-SI-H AND A-SI-B-H ALLOYS

被引:14
|
作者
JOUSSE, D [1 ]
BUSTARRET, E [1 ]
DENEUVILLE, A [1 ]
STOQUERT, JP [1 ]
机构
[1] CTR RECH NUCL,PHASE LAB,F-67037 STRASBOURG,FRANCE
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1986年 / 34卷 / 10期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.34.7031
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
收藏
页码:7031 / 7044
页数:14
相关论文
共 50 条