SOFT-X-RAY ABSORPTION THRESHOLD IN METALS,SEMICONDUCTORS, AND ALLOYS

被引:21
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作者
FLYNN, CP
LIPARI, NO
机构
[1] UNIV ILLINOIS, PHYS DEPT, MAT RES LAB, URBANA, IL 61801 USA
[2] XEROX CORP, RES LABS, ROCHESTER, NY 14644 USA
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.7.2215
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:2215 / 2229
页数:15
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