ISOTOPE LABELING STUDIES OF THE OXIDATION OF SILICON AT 1000-DEGREES-C AND 1300-DEGREES-C

被引:74
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作者
COSTELLO, JA [1 ]
TRESSLER, RE [1 ]
机构
[1] PENN STATE UNIV, DEPT MAT SCI & ENGN, UNIVERSITY PK, PA 16802 USA
关键词
D O I
10.1149/1.2115997
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
收藏
页码:1944 / 1947
页数:4
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