DECOMPOSITION EQUILIBRIUM OF ARSINE AND LOW-PRESSURE DOPING OF EPITAXIAL CVD SILICON

被引：10
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作者：
KOKOVIN, GA [1 ]
TESTOVA, NA [1 ]
TITOV, AA [1 ]
MORGENSTERN, T [1 ]
KUHNE, H [1 ]
机构：
[1] AKAD WISSENSCH DDR,INST HALBLEITERPHYS,DDR-1200 FRANKFURT,GER DEM REP
来源：
CRYSTAL RESEARCH AND TECHNOLOGY | 1985年 / 20卷 / 12期
关键词：
D O I：
10.1002/crat.2170201206
中图分类号：
O7 [晶体学];
学科分类号：
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要：
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页码：1583 / 1593
页数：11
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