DYNAMIC STUDY OF THE FORMATION OF METAL-SEMICONDUCTOR INTERFACES

被引:0
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作者
LELAY, G
机构
来源
VIDE-SCIENCE TECHNIQUE ET APPLICATIONS | 1985年 / 40卷 / 226期
关键词
D O I
暂无
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
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